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薄膜半导体材料制备系统

  • TPD系统
TPD系统

TPD系统

  • 产品描述:TPD系统

TPD系统


程序温度脱附控制系统 (TPD)


用于测量超薄薄膜吸附/脱吸的独立系统,能够在较宽温范围内进行高精度温度控制。

  • 本底真空1×10-9 mbar TPD/TDS 腔室(可用于其他组件的备用端口)
  • 配备四极杆TDS 40A1热脱附质谱仪(质量范围最大到200 AMU),Z轴移动以实现最佳探测器定位
  • 特别设计的圆锥形采样端件
  • 1 轴超高真空操纵器,在宽温范围内具有高精度温度控制(-170°C 1200 °C
  • TDS专用 计算机控制的数据采集和处理软件
  • 样品传输腔配置两个 PTS 样品夹具
  • 从样品传输腔到 TPD 室配置可靠和快速的线性传输系统
  • 19" 支撑柜,安装所有的电子部件
  • 具有大轮子的可调节刚性大型机,便于系统放置

升级选项

  • 操纵器的其他运动轴,并完全机动化
  • 通过精确控制压力,将压力范围从超高真空扩展到 1 atm 的可能性
  • 气体注入系统(手动或精确与 PLC 控制)
  • 溶剂注入系统
  • 致力于在腐蚀性环境中工作的样品夹具
  • 样品传输腔室具有加热和 液氮LN2冷却选项
  • 用于样品准备的专用室
  • 不同质量范围的残余气体分析质谱仪



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