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薄膜半导体材料制备系统

  • MOKE系统
MOKE系统

MOKE系统

  • 产品描述:MOKE系统
MOKE系统

超高真空系统用于对超薄磁膜和多层电子束蒸发的薄膜沉积进行现场实时磁光克尔效应研究。

  • 本底真空范围 10-10mbar, 150°C烘烤
  • 垂直于样品排列的磁极
  • 磁极间场域 > 0.17 特斯拉
  • 4 轴超高真空样品操纵器,用于操作样品夹具
  • 样品加热至800°C,以及使用液氮LN冷却
  • MOKE室光学系统(调节器、极化器、光电探测器、激光)
  • 带设备的整个腔室安装在定位台上
  • 真空手提箱,便于运输

系统特点:

  • 沉积过程中的真空:~1x10-8 mbar
  • 沉积技术:电子束蒸发(EB)
  • 表征技术:MOKE
  • 厚度测量:使用石英晶体显示器
  • 最大场域: ~0.3T
  • 电源: 400W
  • 模块化设计允许连接沉积模块(MBE、PLD、磁控溅射)或分析模块(XPS、UPS、ARPES IR等)

上一个:大容量粉尘扩散发生器 下一个:MBE 系统

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