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光刻系统

  • PL SERIES纳米压印系统
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PL SERIES纳米压印系统

  • 产品描述:纳米压印系统

PL SERIES

Midas推出了一种台式、独立的纳米压印平台:PL系列PL 200/400/600。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台,用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模对准器,同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。

•基板尺寸 PL 200:2英寸,PL 400:4英寸,PL 600:6英寸(尺寸较小,形状不规则)

•压印面积与晶圆尺寸相同

•模板尺寸  PL 200:2,1英寸,PL 400:4,3,1英寸,PL 600:6,4,2,1英寸

•压印压力1 psi标准

•包括模具/基板自动释放-无需特殊工具

•95%强度水平下的紫外线照射时间2~3分钟

•对准能力X、Y、Z和θ(精度2μm)


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