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光刻系统

  • MDA-12SA光刻机
MDA-12SA光刻机

MDA-12SA光刻机

  • 产品描述:MDA-12SA
MDA-12SA光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-12SA
厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/


操作简单,可编程控制器(PLC)操作,PC控制,图像采集和数据记录,100多个程序配方,电动操纵杆控制,电动变焦显微镜和工作台,显微镜位置控制系统

•操纵杆控制,半自动

•掩模版尺寸高达14英寸

•基板尺寸8~12英寸

•均匀光束尺寸13.25*13.25英寸

•紫外线光源:紫外线灯,2 kW,5 kW

•光束波长:350~450 nm

•光束均匀性:<±5%

•365 nm强度:2 kW:~25 mW/㎠,5 kW:~45 mW/㎠

•定位方法:操纵杆控制,半自动

•对准精度:1 um

•操作模式:软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率:2 um@1 um PR厚度,真空接触



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