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光刻系统

  • MDA-400LJ/600LJ
MDA-400LJ/600LJ

MDA-400LJ/600LJ

  • 产品描述:MDA-400LJ/600LJ光刻机
MDA-400LJ/600LJ光刻机 光刻机 光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-400LJ/600LJ光刻机 光刻机
厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-400LJ

操作安装方便,可处理各种尺寸的基板,采用UV-LED曝光模块,UV-LED寿命长

•手动操作

•掩模版尺寸达5英寸

•基板尺寸为4英寸圆形

•均匀性光束尺寸125mm圆

•UV光源UV LED

•光束波长365 nm

•光束均匀性<±3%

•365 nm强度 ~20 mW/

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接触

•尺寸(mm)800(宽)*800(深)*800(高)


MDA-600LJ

操作安装方便,可处理各种尺寸的基板,采用UV-LED曝光模块,UV-LED寿命长

•手动操作

•掩模版尺寸高达7英寸

•基板尺寸为6英寸圆形

•均匀光束尺寸170 mm圆

•UV光源:UV LED

•光束波长365 nm

•光束均匀性<±5%

•365 nm强度 ~20 mW/

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式:软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率 1 um@1 um PR厚度,真空接触

•重量(kg)150

•尺寸(mm)800(宽)*800(深)*800(高)



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